軟X線高強度レーザー電場中での共有結合性希ガス分子の形成

• 研究課題/領域番号: 24K15609
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分80040:量子ビーム科学関連
• 研究機関: 公益財団法人高輝度光科学研究センター
• 研究代表者: 大和田 成起 公益財団法人高輝度光科学研究センター, XFEL利用研究推進室, 主幹研究員 (90725962)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2029-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2028年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円); 2027年度: 260千円 (直接経費: 200千円、間接経費: 60千円); 2026年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2025年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円); 2024年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円)
• キーワード: 強光子場科学 / 軟X線自由電子レーザー

研究開始時の研究の概要

束縛電子の運動がレーザー電場の振動に追随できなくなる軟X線高強度レーザー電場下において、本来であれば共有結合を形成することのないヘリウムのような閉殻原子でも共有結合を形成し得ることが、これまで理論的に示唆されていた。本研究では、理化学研究所のX線自由電子レーザー施設SACLA BL1のナノ集光措置を用いることで高強度軟X線レーザー電場を形成し、希ガス二量体のvan der Waals力による微弱な結合が、共有結合性を帯びた強い結合へと変化することを実験的に示す。