ツイスト積層二層グラフェンにおけるサイクロトロン共鳴吸収の観測

• 研究課題/領域番号: 24K16991
• 研究種目: 若手研究
• 配分区分: 基金
• 審査区分: 小区分13020:半導体、光物性および原子物理関連
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 小野寺 桃子 東京大学, 生産技術研究所, 特任助教 (10907819)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2025年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円); 2024年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
• キーワード: 二次元層状物質 / グラフェン / サイクロトロン共鳴

研究開始時の研究の概要

単層グラフェン同士を微小ツイスト角度θで積層したツイスト積層二層グラフェンにおけるサイクロトロン共鳴吸収を観測する。魔法角近辺でツイスト角度θに対して極めて敏感に変化するフェルミ速度やランダウ準位構造、特異な量子輸送特性を中赤外光応答により明らかにする。より精密なツイスト角度制御を実現するため、レーザー加工とポリ塩化ビニル(PVC)ポリマーを活用した新規積層手法にも取り組む。