メタン活性化による多孔性グラフェン材料合成の高度制御

• 研究課題/領域番号: 24K17558
• 研究種目: 若手研究
• 配分区分: 基金
• 審査区分: 小区分27030:触媒プロセスおよび資源化学プロセス関連
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 山本 雅納 東京工業大学, 物質理工学院, 助教 (70802966)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円); 2026年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2025年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2024年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
• キーワード: メタン活性化 / 多孔質グラフェン / 無機合成化学 / 表面欠陥 / 反応速度解析

研究開始時の研究の概要

金属酸化物ナノ粒子上でのメタンCVDによる多孔質グラフェン合成化学の進展 (M. Yamamoto et al. Chem. Sci. 2024, 15, 1953) を踏まえ、本研究ではナノ構造金属酸化物表面でのメタン熱分解による多孔性グラフェン合成の分子論的理解を更に深化させるとともに、反応制御因子の解明によるメタン分解反応の高度制御を目指す。分子論的理解に基づいた無機合成化学の精密制御により、従前には到達しえなかった高品質三次元グラフェン材料化学の創成を期する。