グラフェン/金属ナノ積層膜を水素透過バリアとして用いた高濃度水素化物の合成

• 研究課題/領域番号: 24K17612
• 研究種目: 若手研究
• 配分区分: 基金
• 審査区分: 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 小澤 孝拓 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (20910144)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円); 2025年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円); 2024年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
• キーワード: 水素 / グラフェン / 金属水素化物

研究開始時の研究の概要

水素は吸着や吸蔵よって物性を変調させる. 特に超高濃度状態は水素の特性に起因した物性を示す可能性があり, どのように高濃度状態を実現するかが物性探索の鍵である. 本研究では水素バリア膜としてグラフェンに着目する. 超高濃度状態での新奇物性の開拓に向け, 水素原子のブロッキング能に優れたグラフェンによって隔離された試料へ水素を非平衡に注入し, 疑似的な高圧環境を作ることで超高濃度水素化物の合成を目指す.