口蓋裂発症の予防に向けたBMPシグナルの下流分子の探索

• 研究課題/領域番号: 24K20080
• 研究種目: 若手研究
• 配分区分: 基金
• 審査区分: 小区分57070:成長および発育系歯学関連
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 横山 美佳 大阪大学, 大学院歯学研究科, 招へい教員 (60967701)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2026年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円); 2025年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2024年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
• キーワード: 口蓋裂

研究開始時の研究の概要

BMPシグナルは口唇口蓋裂に関わる主要なシグナル経路の一つであるが、口蓋形成においてBMPシグナルの下流で働くエフェクター分子は長年不明であった。そこで本研究では Chst11遺伝子のノックアウトマウスとBMPr1aノックアウトマウスのGenetic-interaction実験による実験遺伝学的手法にて、Chst11がBMPシグナル分子のエフェクター分子として口蓋形成 において機能しているかを明らかにする。さらに、BMPシグナルによりChst11遺伝子の発現 が口蓋突起においてどのように制御されているかを明らかにする。