孤立空間におけるラジカル分子の超精密表面合成法

• 研究課題/領域番号: 24K21721
• 研究種目: 挑戦的研究(萌芽)
• 配分区分: 基金
• 審査区分: 中区分28:ナノマイクロ科学およびその関連分野
• 研究機関: 国立研究開発法人物質・材料研究機構
• 研究代表者: 川井 茂樹 国立研究開発法人物質・材料研究機構, マテリアル基盤研究センター, グループリーダー (30716395)
• 研究期間 (年度): 2024-06-28 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 6,500千円 (直接経費: 5,000千円、間接経費: 1,500千円); 2025年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円); 2024年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
• キーワード: 表面化学 / 走査型プローブ顕微鏡 / 表面合成 / 有機ラジカル / 三次元成長

研究開始時の研究の概要

近年、金属基板上で有機化合物を前駆体とした１次元・２次元炭素ナノ構造体のボトムアップ表面合成や、走査型プローブ顕微鏡を用いた単分子の構造・電子状態の解析に関する研究が急速に進展している。現在の表面合成では脱ハロゲンを伴うウルマン反応が一般的に用いられ、その反応に適した小分子の骨格を検討することで、さまざまな構造の炭素ナノ材料が合成されてきた。合成した平坦な炭素ナノ材料中の決まったサイトにヘテロアトムや三次元部位の導入が可能となったが、金属基板の影響がない孤立空間でのラジカル合成は挑戦的研究として残されている。本研究では、プローブ顕微鏡の探針を用いた三次元ラジカル合成技術を開発する。