| 研究課題/領域番号 |
24KF0241
|
|---|
| 研究種目 |
特別研究員奨励費
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 外国 |
|---|
| 審査区分 |
小区分14030:プラズマ応用科学関連
|
|---|
| 研究機関 | 大阪大学 |
|---|
研究代表者 |
吉村 智 大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授 (40294029)
|
|---|
| 研究分担者 |
SPISKE LUCAS 大阪大学, 大学院工学研究科, 外国人特別研究員
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2024-11-15 – 2027-03-31
|
| 研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
|
| 配分額 *注記 |
2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
2026年度: 500千円 (直接経費: 500千円)
2025年度: 1,100千円 (直接経費: 1,100千円)
2024年度: 400千円 (直接経費: 400千円)
|
|---|
| 研究開始時の研究の概要 |
現在の最先端半導体デバイスの製造工程では、原子の大きさ程度の加工精度が求められており、新規材用に対する原子層堆積（ALD）および原子層エッチング（ALE）プロセスの効率的な開発が必要不可欠である。本研究では、密度半関数法（DFT）および分子動力学（MD）シミュレーションによる、現在最先端の半導体プロセスで用いられているALD・ALEプロセスの表面反応機構を系統的に解析すると同時に、より効率的な解析手法の確立を目指し、機械学習（ML）原子間力場モデルを構築する。
|
