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Si基板上GaAs系ナノワイヤの大容量分子線エピタキシャル成長と光電変換応用

研究課題

研究課題/領域番号 24KJ0323
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分基金
応募区分国内
審査区分 小区分21050:電気電子材料工学関連
研究機関北海道大学

研究代表者

峰久 恵輔  北海道大学, 情報科学院, 特別研究員(DC1)

研究期間 (年度) 2024-04-23 – 2027-03-31
研究課題ステータス 交付 (2024年度)
配分額 *注記
2,400千円 (直接経費: 2,400千円)
2026年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
2025年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
2024年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
研究開始時の研究の概要

昨今、脱炭素社会の実現、また世界的な電力需要の増加に対し、再生可能エネルギーの利用が求められ、中でも太陽光発電のコストダウンと高効率化が課題となっている。高効率な多接合型太陽電池にはGeやGaAs等の高価な基板が必要であるが、本研究ではSi基板上へのGaAs系NWの異種接合が可能であるため、コストの低減が期待できる。今回、2インチSi基板上にp-n接合構造を導入した発光・光吸収特性を示すGaAs/AlGaAs NWの大面積成長と太陽電池動作を実証する。また、1.0 eVのバンドギャップを目指し、希釈窒化物半導体GaInNAs(Sb)の導入、及び構造の最適化による高品質結晶成長条件を見出す。

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公開日: 2024-04-24   更新日: 2024-07-03  

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