| 研究課題/領域番号 |
25249010
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
設計工学・機械機能要素・トライボロジー
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
加藤 孝久 東京大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (60152716)
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| 研究分担者 |
崔 ジュン豪 東京大学, 大学院工学系研究科, 准教授 (30392632)
川口 雅弘 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター, 主任研究員 (40463054)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
45,500千円 (直接経費: 35,000千円、間接経費: 10,500千円)
2015年度: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2014年度: 18,850千円 (直接経費: 14,500千円、間接経費: 4,350千円)
2013年度: 21,970千円 (直接経費: 16,900千円、間接経費: 5,070千円)
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| キーワード | カーボンオニオン / 摩擦制御 / 熱処理 / CNPクラスタ / 水素雰囲気 / イオン注入 / 摩擦特性 / CNP成長 / 超潤滑 / トライボロジー / カーボンンナノパーティクル / 表面力 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では，銀薄膜の成膜，カーボンイオン注入，熱処理のプロセスを最適化して，カーボンオニオン超格子の生成を行うことを目的として研究を行った．期間中にイオン注入における各パラメータの影響を検証するとともに，そのメカニズムを明らかにした．粒子ははじめ直径20nm程度まで成長するものの，それ以上は成長しないことが分かった．すなわち粒径のそろったカーボンオニオンを生成することが可能となり，さらに，熱処理温度を最適化することで配列したカーボンオニオンのみからなる膜を生成できることが明らかになった．また，摩擦試験結果から，水素雰囲気下においては摩擦係数が0.01以下の超潤滑を示すことを明らかにした．
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