研究課題
基盤研究(B)
表面ストレスは成長原子の拡散・吸着過程を決定することから、表面ストレスの解明・制御がナノ構造創製のために有力な手段となる。我々はサーファクタントを利用したヘテロ成長過程におけるストレス変化や、表面再構成構造に内在するストレスを実験的に捉えるため、電子線回折と基板たわみ同時計測法を開発し、表面構造に対応するストレスを定量的に評価した。さらには基板ホルダーにストレスを印加する機構を付加し、ストレス印加によるナノ構造創成を可能とした。
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すべて 雑誌論文 (15件) (うち国際共著 4件、 査読あり 15件、 謝辞記載あり 5件、 オープンアクセス 2件) 学会発表 (22件) (うち国際学会 10件、 招待講演 7件)
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