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プラズマ微細加工におけるナノ揺らぎ制御に係わるプラズマ科学の創成

研究課題

研究課題/領域番号 25286080
研究種目

基盤研究(B)

配分区分一部基金
応募区分一般
研究分野 プラズマエレクトロニクス
研究機関名古屋大学

研究代表者

関根 誠  名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (80437087)

連携研究者 竹田 圭吾  名古屋大学, 大学院工学研究科, 助教 (00377863)
近藤 博基  名古屋大学, 大学院工学研究科, 准教授 (50345930)
林 俊雄  名古屋大学, 大学院工学研究科, 教授 (30519591)
石川 健治  名古屋大学, 大学院工学研究科, 教授 (60417384)
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
研究課題ステータス 完了 (2015年度)
配分額 *注記
19,110千円 (直接経費: 14,700千円、間接経費: 4,410千円)
2015年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
2014年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
2013年度: 12,870千円 (直接経費: 9,900千円、間接経費: 2,970千円)
キーワードプラズマ化学 / プラズマエッチング / プラズマ加工 / 凹凸 / レジスト / プラズマビーム
研究成果の概要

人類の持続性繁栄・社会の利便性向上に欠かせない集積回路・センサ・アクチュエータをはじめ,数々の電子情報ナノシステムの構築には微細加工・プラズマエッチングをインテグレーションする方法論の確立が要求されていた.課題は,プラズマ加工における反応プロセス「揺らぎ」が微細加工限界を決定づける寸法レベル,サブナノに達している点であった.すなわち,サブナノ微細加工技術での(1)材料高選択性,(2)平滑化,(3)無損傷化実現するエンジニアリングを達成した.プラズマからのイオン・ラジカル・光を独立に制御して試料に照射して,表面プローブ顕微鏡によってポリマー表面の凹凸形状に与える影響を体系化することができた.

報告書

(4件)
  • 2015 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2014 実績報告書
  • 2013 実績報告書
  • 研究成果

    (19件)

すべて 2015 2014 2013

すべて 雑誌論文 (10件) (うち査読あり 10件) 学会発表 (9件) (うち国際学会 2件、 招待講演 4件)

  • [雑誌論文] Real-time temperature-monitoring of Si substrate during plasma processing and its heat-flux analysis2015

    • 著者名/発表者名
      T. Tsutsumi, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, T. Ohta, M. Ito, M. Sekine, M. Hori
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physices

      巻: 54 号: 1S ページ: 01AB04-01AB04

    • DOI

      10.7567/jjap.55.01ab04

    • NAID

      210000145944

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Feedback Control System of Wafer Temperature for Advanced Plasma Processing and its Application to Organic Film Etching2015

    • 著者名/発表者名
      Takayoshi Tsutsumi, Yusuke Fukunaga, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Takayuki Ohta, Masafumi Ito, Makoto Sekine, and Masaru Hori
    • 雑誌名

      IEEE Trans Semiconductor manufacturing

      巻: 28 号: 4 ページ: 515-520

    • DOI

      10.1109/tsm.2015.2470554

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Suppression of plasma-induced damage on GaN etched by a Cl2 plasma at high temperatures2015

    • 著者名/発表者名
      Zecheng Liu, Jialin Pan, Takashi Kako Kenji Ishikawa, Osamu Oda, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
    • 雑誌名

      Japan. J. Appl. Phys.

      巻: 54 号: 6S2 ページ: 06GB04-06GB04

    • DOI

      10.7567/jjap.54.06gb04

    • NAID

      210000145318

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electronic properties of HBr, O2 and Cl2 used in Si etching2015

    • 著者名/発表者名
      Toshio Hayashi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
    • 雑誌名

      Japan. J. Appl. Phys.

      巻: 54 号: 6S2 ページ: 06GA03-06GA03

    • DOI

      10.7567/jjap.54.06ga03

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Hydrofluorocarbon ion density of argon- or krypton-diluted CH2F2 plasmas: Generation of CH2F+ and CHF2+ by dissociative-ionization in charge exchange collisions2015

    • 著者名/発表者名
      Yusuke Kondo, Yudai Miyawaki, Kenji Ishikawa, Toshio Hayashi, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
    • 雑誌名

      J. Phys. D: Appl. Phys.

      巻: 48 号: 4 ページ: 045202-045202

    • DOI

      10.1088/0022-3727/48/4/045202

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] CF3+ fragmentation by electron impact ionization of perfluoro-propyl-vinyl-ethers, C5F10O, in gas phase2015

    • 著者名/発表者名
      Yusuke Kondo, Kenji Ishikawa, Toshio Hayashi, Yudai Miyawaki, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
    • 雑誌名

      Japan. J. Appl. Phys.

      巻: 54 号: 4 ページ: 040301-040301

    • DOI

      10.7567/jjap.54.040301

    • NAID

      210000144897

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Silicon nitride (SiN) etch performance of CH2F2 plasmas diluted with argon or krypton2015

    • 著者名/発表者名
      Yusuke Kondo, Kenji Ishikawa, Toshio Hayashi, Yudai Miyawaki, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
    • 雑誌名

      Japan. J. Appl. Phys.

      巻: 54 号: 4 ページ: 040303-040303

    • DOI

      10.7567/jjap.54.040303

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Development of the sputtering yields of ArF photoresist after the onset of argon ion bombardment2013

    • 著者名/発表者名
      Takuya Takeuchi, Carles Corbella, Simon Grosse-Kreul, Achim von Keudell, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Keigo Takeda, Makoto Sekine, and Masaru Hori
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: 103 号: 1 ページ: 14306-14306

    • DOI

      10.1063/1.4772996

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Surface roughness development on ArF-photoresist studied by beam-irradiation of CF4 plasma2013

    • 著者名/発表者名
      Takuya Takeuchi, Kenji Ishikawa, Yuichi Setsuhara, Hiroki Kondo, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Masaru Hori
    • 雑誌名

      J. Phys. D: Appl. Phys.

      巻: 46 号: 10 ページ: 102001-102001

    • DOI

      10.1088/0022-3727/46/10/102001

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] A novel fast and flexible technique of radical kinetic behaviour investigation based on pallet for plasma evaluation structure and numerical analysis2013

    • 著者名/発表者名
      Arkadiusz Malinowski, Takuya Takeuchi, Shang Chen, Toshiya Suzuki, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Lidia Lukasiak, and Andrzej Jakubowski
    • 雑誌名

      J. Phys. D: Appl. Phys.

      巻: 46 号: 26 ページ: 265201-265201

    • DOI

      10.1088/0022-3727/46/26/265201

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Plasma Induced Roughness Formation on Photoresist Examined by HBr Plasma-Beam Etching2015

    • 著者名/発表者名
      Yan Zhang, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Masaru Hori
    • 学会等名
      61st American Vacuum Symposium
    • 発表場所
      Baltimore, MD USA
    • 年月日
      2015-11-10 – 2015-11-15
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Roughness formation on photoresist during etching examined by HBr plasma-beam2015

    • 著者名/発表者名
      Makoto Sekine, Yan Zhang, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, and Masaru Hori
    • 学会等名
      Gaseous Electronics Conference (GEC)
    • 発表場所
      Raleigh NC, USA
    • 年月日
      2015-11-03 – 2015-11-07
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Low-Damage Etching Technology for Nitride Semiconductor Devices2015

    • 著者名/発表者名
      Makoto Sekine
    • 学会等名
      Plasma Science and Technology, AVS 62nd International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      the San Jose Convention Center, San Jose, CA
    • 年月日
      2015-10-21
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Reactive species in atmospheric pressure Ar plasma and their effect on yeast cells2015

    • 著者名/発表者名
      Makoto Sekine
    • 学会等名
      International Workshop for Bio & Medical Applications of Plasma Science
    • 発表場所
      Josef Stefan Institute, Slovenia
    • 年月日
      2015-09-29
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Modifications of Photoresists Surface on Photon Irradiations in HBr Plasmas2015

    • 著者名/発表者名
      Yan Zhang, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Masaru Hori
    • 学会等名
      19th Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics
    • 発表場所
      Gunsan, South Korea
    • 年月日
      2015-07-01 – 2015-07-02
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Plasma nano-interface with organic materials for surface-roughness formation2014

    • 著者名/発表者名
      M. Sekine (Invited), Y. Zhang, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori
    • 学会等名
      The 9th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
    • 発表場所
      Bohinj Park ECO Hotel, Bohinjska Bistrica, Slovenia
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Plasma Induced Surface Roughness of Polymeric Materials2014

    • 著者名/発表者名
      K. Ishikawa (Invited), T. Takeuchi, Y. Zhang, Y. Setsuhara, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    • 学会等名
      18th Korea - Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics
    • 発表場所
      Fukuoka Japan
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Plasma Induced Surface Roughness of ArF Photoresist Examined by Plasma-Beam Processes2013

    • 著者名/発表者名
      T. Takeuchi, Y. Zhang, K. Ishikawa, M. Sekine, Y. Setsuhara, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori
    • 学会等名
      AVS 60th International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      Long Beach, California, USA
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] An Inhibition Mechanism for Surface Roughening of Photoresist During Plasma Etching Process with Plasma Cure2013

    • 著者名/発表者名
      Yan Zhang, Takuya Takeuchi, Hiroki Nagano, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Masaru Hori
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      Kyoto Japan
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書

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公開日: 2013-05-21   更新日: 2019-07-29  

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