研究課題/領域番号 |
25390100
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
光工学・光量子科学
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研究機関 | 東北工業大学 |
研究代表者 |
内野 俊 東北工業大学, 工学部, 教授 (40614970)
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研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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配分額 *注記 |
5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円)
2015年度: 390千円 (直接経費: 300千円、間接経費: 90千円)
2014年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2013年度: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
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キーワード | メタマテリアル / プラズモニクス / 光電子デバイス / エピタキシャル成長 / プラズモニック材料 / 多層膜 / プラズモニック結晶 / グラフェン / 多層構造 |
研究成果の概要 |
プラズモニック・メタマテリアルは、負の屈折率を持つ物質を作ることができ、光デバイスの高性能化および小型化を実現する新材料として近年注目されている。しかし、光がメタマテリアル表面でエネルギーを大きく損失するため、理論から予想される高性能が得られなかった。そこで、高効率材料のAgを含む多層薄膜のエピタキシャル成長技術を開発することを目的として本研究を実施した。その結果、粒界のない平坦な表面をもつメタマテリアルを作製することに成功し、光エネルギーを高効率で制御することが可能になった。
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