| 研究課題/領域番号 |
25390107
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマエレクトロニクス
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| 研究機関 | 金沢大学 |
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研究代表者 |
石島 達夫 金沢大学, 学内共同利用施設等, 准教授 (00324450)
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| 研究分担者 |
上杉 喜彦 金沢大学, 理工研究域, 教授 (90213339)
田中 康規 金沢大学, 理工研究域, 教授 (90303263)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
2015年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2014年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2013年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | 反応性プラズマ / プラズマ－液体相互作用 / 液中・液界面反応 / OHラジカル / 化学プローブ / 発光分光計測 / ＯＨラジカル / 大気圧プラズマ |
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| 研究成果の概要 |
大気圧非熱平衡プラズマは、動作ガス種、流量、照射距離等、様々な制御パラメータがある。これらのパラメータの制御により、大気圧非熱平衡プラズマによって生成される気相中化学種の密度や空間分布が変化する。従って大気圧非熱平衡プラズマの制御因子のそれぞれが、溶液に及ぼす種々の化学反応に対する寄与を明らかにすることが重要である。本研究では、テレフタル酸を用いた化学プローブ法を用い、プラズマ制御因子がプラズマ－液体相互作用により液中に生成される活性種（OHラジカル）の生成速度などの反応場に及ぼす影響を検討し、酸素などの反応性化学種の微量の添加により液中化学種の生成速度が増加することを見出した。
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