| 研究課題/領域番号 |
25390108
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマエレクトロニクス
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| 研究機関 | 近畿大学 (2015)
岐阜大学 (2013-2014) |
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研究代表者 |
牟田 浩司 近畿大学, 工学部, 教授 (10219850)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円)
2015年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2014年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2013年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
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| キーワード | VHFプラズマ / 超音速噴流 / 高速製膜 / クラスター / マルチホローカソード / シランプラズマ / クラスタ- / 高次シラン / クラスタ / プラズマパラメータ / 大面積一様化 |
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| 研究成果の概要 |
本研究は微結晶シリコン製膜プロセスの高速化・高品質化・大面積化を目指して、特にガス流れに注目し、プラズマや膜特性との関係を詳細に調べ、製膜プロセスの高度化を図ることを目的としている。シランプラズマ中で超音速噴流を用いると、ガス圧とノズル基板間距離を最適化することで従来の約1000倍以上の製膜速度が得られるが、同時に気相中に発生するクラスターが膜質を劣化させる。これに対し、マルチロッドとマルチホローを組み合わせた電極を用いることで、高品質な膜を高速かつ大面積に得られる見通しを得た。
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