研究課題
基盤研究(C)
プラズマ表面改質において重要な役割を果たす酸素原子ラジカルに注目してこの研究は行われた。表面改質としてはポリイミドの親水化処理を対象とした。各種プラズマに対して、白金触媒プローブによる酸素原子ラジカル数密度が測定され、親水化処理との関係を明らかにした。白金触媒プローブの測定手法についても検討した。研究遂行の過程で、金属表面におけるオゾンの解離現象において金属表面に対するプラズマの作用が重要であることが分かった。
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