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グラフェン高Q高周波空洞の原理実証

研究課題

研究課題/領域番号 25390143
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 量子ビーム科学
研究機関公益財団法人高輝度光科学研究センター

研究代表者

出羽 英紀  公益財団法人高輝度光科学研究センター, 加速器部門, 副主幹研究員 (20360836)

研究分担者 水野 明彦  公益財団法人高輝度光科学研究センター, 加速器部門, 副主幹研究員 (30360829)
冨澤 宏光  公益財団法人高輝度光科学研究センター, XFEL利用研究推進室, 副主幹研究員 (40344395)
谷内 努  公益財団法人高輝度光科学研究センター, 加速器部門, 副主幹研究員 (60360822)
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2017-03-31
研究課題ステータス 完了 (2016年度)
配分額 *注記
5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
2015年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2014年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
2013年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
キーワードグラフェン / 加速器 / 高周波 / 高周波空洞 / 熱CVD法 / Q値 / 熱CVD / ラマン分光計測 / 無酸素銅 / 電気伝導 / 空洞共振器 / 成膜 / 加速空洞 / 電気伝導度 / CVD
研究成果の概要

銅よりも大きな電子移動度,高い熱伝導率,高い表面強度といった優れた特徴を持つグラフェンに注目し、粒子加速器用高周波空洞の表面材料としての適用について研究をおこなった。高周波空洞成膜用の熱CVD炉を製作し、超精密旋盤で表面を加工した無酸素銅空洞の表面に熱CVD法を用いてグラフェンを成膜することにより、グラフェンの高周波空洞の製作を試みた。無酸素銅薄膜上にグラフェンを成膜できることが確認され、同じプロセス条件で無酸素銅空洞上へのグラフェンの熱CVDによる成膜を試みた。空洞の銅表面に炭素膜が成膜されたことは確認できたが、ラマン分光ではグラフェンの成膜を確認することはできなかった。

報告書

(5件)
  • 2016 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2015 実施状況報告書
  • 2014 実施状況報告書
  • 2013 実施状況報告書

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公開日: 2014-07-25   更新日: 2019-07-29  

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