研究課題/領域番号 |
25410058
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
無機化学
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研究機関 | 東北大学 |
研究代表者 |
小室 貴士 東北大学, 理学(系)研究科(研究院), 助教 (20396419)
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研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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配分額 *注記 |
5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円)
2015年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2014年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2013年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
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キーワード | シリル錯体 / キレート配位子 / キサンテン誘導体 / 後周期遷移金属 / 配位不飽和錯体 / 触媒反応 / C-H結合活性化 / 水素化 / シリル配位子 / 金属錯体 / 金属-ケイ素錯体 / ルテニウム錯体 / イリジウム錯体 / ビス(シリル)配位子 / ヒドロシリル化 |
研究成果の概要 |
金属に弱く配位可能な酸素配位子部分を含むシリルキレート配位子(ビス(シリル)およびシリル(ホスフィン)キサンテン誘導体)を有する反応活性な後周期遷移金属(Ru, Rh, Ir)錯体を合成し,得られた錯体の反応性・触媒機能を調べた。その結果,同錯体を触媒とした特異な反応として,“(1) 温和な条件下での芳香環C-H結合の活性化を経るアリールアルキンのシリル化反応”,および“(2) 金属-ケイ素結合上での可逆的な水素化/脱水素化を経るアルケンの水素化”を開発した。
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