極低速エピタキシャル結晶成長を利用した規則的マイクロテクスチャの自律的創成技術

• 研究課題/領域番号: 25420076
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 生産工学・加工学
• 研究機関: 東京工業高等専門学校
• 研究代表者: 角田 陽 東京工業高等専門学校, その他部局等, 准教授 (60224359)
• 研究期間 (年度): 2013-04-01 – 2016-03-31
• 研究課題ステータス: 完了 (2015年度)
• 配分額: 4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円); 2015年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2014年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2013年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
• キーワード: マイクロテクスチャ / エピタキシャル成長 / テクスチャ / 表面創成

研究成果の概要

マイクロテクスチャ面とは，代表寸法がマイクロメートル以下のオーダの単位規則形状が整列した表面をさし，濡れ性の制御によるはっ水効果など，さまざまな分野での応用が期待できる．本研究では，極低速でのMBE(Molecular Beam Epitaxy)によるエピタキシャル成長を用いて，機械的加工によらない，マイクロテクスチャ面の創成技術の確立を目指しており，単結晶Si基板にフォトリソグラフィとRIEによるドライエッチングによりさまざまなパターン形状を付加した後に，MBEを行い，加工条件と創成テクスチャの関係を体系化することで，任意のマイクロテクスチャ面創成技術を確立するための知見を得た．

研究成果

• [雑誌論文] Autonomously Generating Micro-Textured Surfaces with Regular Alignment Shapes by using Molecular Beam Epitaxy for Nanoimprint Die (2015)
  • 著者名/発表者名: Naoki Taira and Akira Kakuta
  • 雑誌名: Proceedings of International Conference on Micromanufacturing 2015 巻: 1 ページ: 490-493
  • 査読あり
• [雑誌論文] 3D-micro shape generation of polymer by using 355 nm pico-second pulse laser (2014)
  • 著者名/発表者名: Akira Kakuta and Kyosuke Kanou
  • 雑誌名: Proceedings of International Conference on Precision Engineering 2014 巻: 1
  • 査読あり
• [学会発表] エピタキシャル薄膜成長を利用したマイクロテクスチャ面の創成―(100)Si基板への極低速成長による創成― (2016)
  • 著者名/発表者名: 尾方博紀，角田 陽
  • 学会等名: 精密工学会学生会員卒業研究発表講演会
  • 発表場所: 東京理科大学（千葉県野田市）
  • 年月日: 2016-03-15
• [学会発表] 単位形状を規則的に配列したマイクロテクスチャ面の創成（第1報） (2015)
  • 著者名/発表者名: 角田陽，平直樹
  • 学会等名: 精密工学会 春季大会 学術講演会
  • 発表場所: 東洋大学 白山キャンパス（東京都文京区）
  • 年月日: 2015-03-18