研究課題
基盤研究(C)
パルスパワー領域の極短高電圧パルスと通常領域の低電圧長パルスを組み合わせたパルス群を出力できる非対称バーストパルスシステムを製作し対象生物に対する遺伝子導入実験をおこなった。電気パルスの影響を抑えるために,周囲溶液やパルス印加後の対象物の取り扱いに注意が必要であることが分かった。対象生体に効率良くGFPを導入するためには,非対称バーストパルスである前方パルスと後方パルスの形状が重要で,また,極短パルスのパルス幅も導入率に影響することが分かった。
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