研究課題/領域番号 |
25420318
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
電子デバイス・電子機器
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研究機関 | 茨城大学 |
研究代表者 |
小峰 啓史 茨城大学, 工学部, 准教授 (90361287)
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研究分担者 |
杉田 龍二 茨城大学, 工学部, 教授 (20292477)
青野 友祐 茨城大学, 工学部, 准教授 (20322662)
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連携研究者 |
長谷川 靖洋 埼玉大学, 理工学研究科, 准教授 (60334158)
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研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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配分額 *注記 |
5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円)
2015年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2014年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2013年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
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キーワード | 磁気メモリ / 電流誘起磁壁移動 / 積層構造 / 層間相互作用 / 高速化 / 多層構造 / ナノワイヤ |
研究成果の概要 |
本研究では,電流誘起磁壁移動を用いた超高記録密度積層構造ナノワイヤメモリにおける低電流化と高速化を検討した.磁壁抵抗評価を通じて,低電流化のための候補材料であるTbFeCo薄膜のスピン分極率を評価した.その結果,0.16という磁壁移動に十分なスピン分極率を得た.磁成膜の下地層に流れる駆動電流が磁壁移動に及ぼす影響を調べたところ,駆動電流が作る面ない磁場が磁壁移動を改善することがわかった.積層磁成膜における層間相互作用が磁壁移動に及ぼす影響を調べたところ,反強磁性結合によって磁壁移動速度が大幅に改善すること明らかにした.スピン軌道トルクとの組み合わせでさらなる高速動作が期待出来る.
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