研究課題/領域番号 |
25420727
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
複合材料・表界面工学
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研究機関 | 公益財団法人名古屋産業科学研究所 (2015) 名古屋大学 (2013-2014) |
研究代表者 |
小長谷 重次 公益財団法人名古屋産業科学研究所, その他部局等, 研究員 (30418785)
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連携研究者 |
山田 敏郎 金沢大学, 自然システム学系, 教授 (60272952)
真田 和昭 富山県立大学, 工学部, 准教授 (20363872)
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研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2015年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2014年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2013年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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キーワード | 導電性高分子 / 酸化グラフェン / 複合材料 / 透明導電 / ポリアニリン / PEDOT / 薄膜 / 熱還元 / グラフェン / フェノール / 導電性 / 透明性 / 透明導電膜 / セルロースナノファイバー |
研究成果の概要 |
導電性高分子(ドデシルベンゼンスルホン酸ドープポリアニリン(PANI:DBSA)、自己ドーパント型スルホン化ポリアニリン(PAS), ポリスチレンドープポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン(PEDOT:PSS)と酸化グラフェン(GO)との複合体につき、GO添加量、熱処理温度が導電性に与える影響につき検討した。所定のGO添加比かつ150℃以上の加熱処理により導電性が向上した。添加ドーパントあるいは導電性高分子に結合したスルホン酸基が高温下でGOの還元(Oの脱離)を促進する結果、SP2結合(π結合)の増大をもたらし、導電性の向上が発現することを明らかにした。
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