| 研究課題/領域番号 |
25420736
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
複合材料・表界面工学
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| 研究機関 | 上智大学 |
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研究代表者 |
板谷 清司 上智大学, 理工学部, 教授 (90129784)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円)
2015年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2014年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2013年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
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| キーワード | ポリエーテルエーテルケトン / 真空紫外光照射 / 表面改質 / マイクロ波加熱 / 水酸アパタイト / シランカップリング / 接着強化 / 親水性 / 水酸アパタイト膜 / 膜厚 / メッシュ / 硫酸処理 / 水酸アパタイト被覆 / 生体材料 / シリカ質膜 / 疑似体液 |
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| 研究成果の概要 |
脊椎固定インプラント等への応用が期待されているポリエーテルエーテルケトン（PEEK）上に，生体親和性に優れた水酸アパタイト（Ca10(PO4)6(OH)2：HAp）膜を迅速に形成する条件を検討した。すなわち，高エネルギーの真空紫外光（波長：172 nm）を照射するか，または酸処理して表面改質したPEEK基板をHAp溶解水溶液に浸漬し，さらに100ºC ～140ºCの温度で10 minマイクロ波加熱することによって，迅速にHAp膜を形成させることができた。
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