| 研究課題/領域番号 |
25600040
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
ナノ材料工学
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
伊藤 和博 大阪大学, 接合科学研究所, 教授 (60303856)
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| 連携研究者 |
大西 隆 神鋼リサーチ株式会社
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2014-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2013年度: 4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
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| キーワード | 透明導電膜 / Ti基酸化物 / p型伝導 / 界面反応 |
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| 研究概要 |
40nm厚のITO膜を有するITO/ガラス基板上にCu(10at.%Ti)合金膜を300nm厚成膜し、400℃で約6時間真空中で熱処理することにより、合金膜中のTiとITO膜が反応し、ITO膜が全て消失してガラス基板上に透明なTi酸化物膜を形成できた。この膜はTiO2を主構成相とするアモルファス膜であった。その透過率は可視光域で約70％を示し、ITO/ガラス膜の約80％と同等であった。その膜のシート抵抗は約1.0×10^3 Ω/sq.とITO膜より約一桁高い値を示し、ホール係数が正のp型伝導を示した。p型伝導の起源は1価の不純物Cuによると考えられる。
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