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ナノカーボン多層構造物を用いた超小型炭素水素化合物センサーの開発

研究課題

研究課題/領域番号 25600123
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 プラズマエレクトロニクス
研究機関名古屋大学

研究代表者

田嶋 聡美  名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (50537941)

連携研究者 近藤 博基  名古屋大学 (50345930)
研究協力者 CVELVAR Uros  Jozef Stefan Institute
SLOBODIAN Petr  Tomas Beta University in Zlín
FAVIA Pietro  Università degli Studi di Bari Aldo Moro
GRISTINA Roberto  Institute of Inorganic Methods and Plasmas, Consiglio Nazionale delle Ricerche
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2015-03-31
研究課題ステータス 完了 (2014年度)
配分額 *注記
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2014年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
2013年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
キーワード吸着 / カーボン膜 / PECVD / ばらつき制御 / 表面電位 / 炭化水素 / センサー / 国際研究者交流 スロベニア / PECVD / ガスセンサー / 大気圧プラズマ / CVD / 生体模倣材料 / 表面改質 / MEMS
研究成果の概要

本研究の目的は車の排ガス内の炭化水素化合物の分子識別可能な小型センサーを作成するため、気体吸着能力が高い生体材料(コウイカの骨)に注目し、生体模倣材料を作成することである。本研究期間内に骨芽細胞(Saos-2)のActin Filamentを変質させることによって、コウイカの骨の多層構造を模した細胞が作製できることが分かった。またコウイカの骨の構造を模したナノカーボン構造物を作製し、粒径・幅を変化させることで異なる分子量の炭化水素を識別できるセンサー素子を開発した。

報告書

(3件)
  • 2014 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2013 実施状況報告書
  • 研究成果

    (24件)

すべて 2015 2014 2013 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件、 オープンアクセス 1件、 謝辞記載あり 1件) 学会発表 (19件) (うち招待講演 8件) 備考 (2件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Evaluation of the difference in the ratecoefficients of NOx(X = 1 or 2) + F2 -> F + FNOx by thestereochemical arrangement using the density functional theory2015

    • 著者名/発表者名
      Satomi Tajima, Toshio Hayashi, and Masaru Hori
    • 雑誌名

      J. Phys. Chem. A

      巻: 119 号: 8 ページ: 1381-1387

    • DOI

      10.1021/jp510886b

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Formation of Nanoporous Features, Flat Surfaces, or Crystallographically Oriented Etched Profiles by the Si Chemical Dry Etching Using the Reaction of F2 + NOー>F + FNO at an Elevated Temperature2013

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, T. Hayashi, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
    • 雑誌名

      J. Phys. Chem. C

      巻: 117 号: 40 ページ: 20810-20818

    • DOI

      10.1021/jp4084794

    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Chemical dry etching of Si using F2 and NO2 gases at elevated temperature2015

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, H. Hayashi, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
    • 学会等名
      7th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/8th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2015/IC-PLANTS2015)
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2015-03-30
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Surface reaction during the slow Si etching using F2 and NO22015

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, H. Hayashi, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
    • 学会等名
      The 62nd Japan Society of Applied Physics (JSAP) Spring Meeting
    • 発表場所
      東海大学
    • 年月日
      2015-03-12
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Development of a atmospheric-pressure plasma chemical vapor deposition system for the reduction of the process variability2015

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, K. Yamada, K. Nanki, T. Nakajima, H. Yasuda, H. Kurita, K. Takashima, and A. Mizuno
    • 学会等名
      Symposium for the promotion of the female science and engineering researcher
    • 発表場所
      豊橋技術科学大学
    • 年月日
      2015-03-10 – 2015-03-15
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Difference in chemical dry etching of Si related materials using NO and NO22015

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, H. Hayashi, and M. Hori
    • 学会等名
      The 20th Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The 7th Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials
    • 発表場所
      北海道大学
    • 年月日
      2015-01-27 – 2015-01-28
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] The challenges and issues of plasma-assisted adhesion improvement2015

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima
    • 学会等名
      68th Advisory Committee on Ultra Precision Workshop
    • 発表場所
      メルパルク大阪
    • 年月日
      2015-01-23
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] The change in growth, differentiation, and adhesion characteristics of plasma-treated A549 and Saos-2 cells2014

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima
    • 学会等名
      Central Japan Medical and Bio seeds research academia-industry matching workshop
    • 発表場所
      ウインク愛知、名古屋市
    • 年月日
      2014-12-10
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Anisotropic chemical dry silicon wafer etching using F2 + NO  F + FNO reaction2014

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, T. Hayashi, K. Yamakawa, M. Sasaki, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
    • 学会等名
      36th International Symposium on Dry Process
    • 発表場所
      PACIFICO Convention Plaza、横浜市
    • 年月日
      2014-11-28
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Intoroduction of the plasma material surface treatment2014

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima
    • 学会等名
      Sumitomo Seika Chemicals, Co., Ltd. Beppu Factory Workshop
    • 発表場所
      住友精化株式会社 別府工場
    • 年月日
      2014-11-05
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Analysis of F loss during the chemical dry etching of Si using NO and F2 gases (II)2014

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, T. Hayashi, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Sasaki, K. Yamakawa, and M. Hori
    • 学会等名
      The 75th Japan Society of Applied Physics (JSAP) Autumn Meeting
    • 発表場所
      北海道大学
    • 年月日
      2014-09-19
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Designing the material process chamber2014

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima
    • 学会等名
      Female junior and high school students science and technology major promotion seminar
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2014-08-06
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] The reaction between the etched product and the Si (100) surface during the chemical dry etching in F2 and NO gases2014

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, T. Hayashi, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Sasaki, K. Yamakawa, and M. Hori
    • 学会等名
      Gorden Research Conference Plasma Processing Science
    • 発表場所
      Bryant Univ., Smithfield, RI, USA
    • 年月日
      2014-07-27 – 2014-07-30
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Chemical Dry Etching of the Si Sacrificial Layer in MEMS Devices2014

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, T. Hayashi, M. Sasaki
    • 学会等名
      International Nanotechnology Exhibition & Conference (nano tech 2014)
    • 発表場所
      Tokyo Big Sight, Tokyo, Japan
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Fabricating the smooth chemically dry etched Si surface for MEMS devices2013

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, T. Hayashi, Minoru Sasaki, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
    • 学会等名
      The 35th International Symposium on Dry Process (DPS2013)
    • 発表場所
      Ramada Plaza Jeju Hotel, Jeju Island, Korea
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
  • [学会発表] Si chemical dry etching in NOx (x=1 or 2) / F2 gas mixture at an elevated temperature (II)2013

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, T. Hayashi, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      Doshisha University, Kyotanabe Campus, Kyotanabe, Kyoto, Japan
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
  • [学会発表] Modification of A549 mitochondria activity, cell shape, and cell cytoskeleton by an atomic oxygen radical source2013

    • 著者名/発表者名
      Satomi Tajima, Kenji Ishikawa, Keigo Takeda, and Masaru Hori
    • 学会等名
      The 2013 JSAP-MRS symposia
    • 発表場所
      Doshisha University, Kyotanabe Campus, Kyotanabe, Kyoto, Japan
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
  • [学会発表] Effect of neutral species generated by the micro hollow-cathode discharge radical source on the modification of A549 cell viability2013

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, M. Hori
    • 学会等名
      The 9th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2013)
    • 発表場所
      Ramada Plaza Jeju Hotel, Jeju Island, Korea
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
  • [学会発表] Indirect plasma treatment of SAOS-2 and NHDF cells by surface dielectric barrier discharge2013

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, R. Gristina, P. Ambrico, D. Pignatelli, K. Masur, K.-D. Weltmann, T. von Woedtke, H. Toyoda, M. Hori, P. Favia
    • 学会等名
      The 21st International Symposium on Plasma Chemistry
    • 発表場所
      Cairns, QLD, Australia
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
  • [学会発表] 名古屋大学におけるプラズマの研究動向と最新のトピックス2013

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima
    • 学会等名
      平成25年度第1回かがわ健康関連製品開発地域技術討論会
    • 発表場所
      香川大学
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Si chemical dry etching using the reaction of NO and F22013

    • 著者名/発表者名
      S. Tajima, T. Hayashi, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
    • 学会等名
      17th Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics
    • 発表場所
      SKKU, Suon, Korea
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
    • 招待講演
  • [備考] Research activity

    • URL

      https://researchmap.jp/readread/Research-activities/

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [備考] http://researchmap.jp/readread

    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
  • [産業財産権] Low-speed etching technique and etching equipment using F2 and NO2 gases2015

    • 発明者名
      田嶋聡美、林俊雄、堀勝
    • 権利者名
      田嶋聡美、林俊雄、堀勝
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2015-030105
    • 出願年月日
      2015-02-25
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書

URL: 

公開日: 2014-07-25   更新日: 2019-07-29  

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