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炭化ケイ素を用いたダークマテリアル創製への挑戦

研究課題

研究課題/領域番号 25630119
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関山形大学

研究代表者

成田 克  山形大学, 理工学研究科, 助教 (30396543)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2015-03-31
研究課題ステータス 完了 (2014年度)
配分額 *注記
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2014年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2013年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
キーワード炭化ケイ素 / 反射率 / 透過率 / 赤外光 / 紫外-可視光 / 黒体 / 紫外‐可視光 / 立方晶炭化ケイ素 / ダークマテリアル
研究成果の概要

立方晶炭化ケイ素(3C-SiC)は屈折率が比較的高く反射率が20%もあるため、完全黒体に近い物質、ダークマテリアルにはなりえない。本研究課題で我々は、この反射率の高いSiCを用いたダークマテリアル創製に挑戦した。有機シランガスを用いた化学気相堆積法により表面が黒い多結晶SiC膜が堆積し、さらに堆積を最適化することで、紫外-可視-近赤外光領域で反射率が約6%の低反射率多結晶SiC膜の開発に成功した。

報告書

(3件)
  • 2014 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2013 実施状況報告書
  • 研究成果

    (2件)

すべて 2015 2014

すべて 学会発表 (2件)

  • [学会発表] 自然酸化膜付Si基板上へのモノメチルシランを用いたSiC薄膜高速成長(II)2015

    • 著者名/発表者名
      山田晋平,成田 克,中島健介,内藤正路,末光眞希
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス(神奈川県平塚市)
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] 自然酸化膜付Si 基板上へのモノメチルシランを用いたSiC薄膜高速成長2014

    • 著者名/発表者名
      成田 克,山田晋平,高野昌伸,早尾貴史,中島健介,末光眞希
    • 学会等名
      第75回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      北海道大学札幌キャンパス(北海道札幌市)
    • 年月日
      2014-09-17 – 2014-09-20
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書

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公開日: 2014-07-25   更新日: 2025-11-19  

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