• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

誘電率変調構造を有する有機系新機能素子を目指したプラズマ表面反応制御の研究

研究課題

研究課題/領域番号 25630293
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 複合材料・表界面工学
研究機関京都大学

研究代表者

江利口 浩二  京都大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (70419448)

研究分担者 斧 高一  京都大学, 大学院工学研究科, 教授 (30311731)
鷹尾 祥典  横浜国立大学, 大学院工学研究院, 准教授 (80552661)
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
研究課題ステータス 完了 (2015年度)
配分額 *注記
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2015年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2014年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2013年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
キーワードプラズマ / 誘電率 / 欠陥 / 有機膜 / シリコン / 有機材料 / 電気容量
研究成果の概要

有機系機能素子の高信頼性化に向けて、減圧プラズマ曝露による絶縁膜(SiOC膜)中での欠陥形成機構の解明に取り組んだ。ナノスケールの電気容量解析手法を用いて、電荷捕獲型欠陥密度を定量化する手法を提案した。プラズマ曝露条件に依存して、機械的強度や誘電率が大きく変動することが明らかになった。また、大気圧プラズマ曝露やマイクロ波照射による欠陥構造の回復過程について検討した。得られた知見は、将来の有機系材料構造設計に重要な指針を与えるものである。

報告書

(4件)
  • 2015 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2014 実施状況報告書
  • 2013 実施状況報告書
  • 研究成果

    (26件)

すべて 2016 2015 2014 2013 その他

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 6件、 謝辞記載あり 2件) 学会発表 (17件) (うち国際学会 5件、 招待講演 4件) 備考 (3件)

  • [雑誌論文] Characterization of plasma process-induced latent defects in surface and interface layer of Si substrate2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Nakakubo, K. Eriguchi, K. Ono
    • 雑誌名

      ECS Journal of Solid State Science and Technology

      巻: 4 号: 6 ページ: N5077-N5083

    • DOI

      10.1149/2.0121506jss

    • NAID

      120005756254

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書 2014 実施状況報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Impacts of plasma process-induced damage on MOSFET parameter variability and reliability2015

    • 著者名/発表者名
      K. Eriguchi, K. Ono
    • 雑誌名

      Microelectronics Reliability

      巻: 55 号: 9-10 ページ: 1464-1470

    • DOI

      10.1016/j.microrel.2015.07.004

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Influence of microwave annealing on optical and electrical properties of plasma-induced defect structures in Si substrate2015

    • 著者名/発表者名
      T. Iwai, K. Eriguchi, S. Yamauchi, N. Noro, J. Kitagawa, K. Ono
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. A

      巻: 33 号: 6 ページ: 061403-061403

    • DOI

      10.1116/1.4927128

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effects of straggling of incident ions on plasma-induced damage creation in "fin"-type field-effect transistors2014

    • 著者名/発表者名
      K. Eriguchi, A. Matsuda, Y. Takao, K. Ono
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 53 号: 3S2 ページ: 03DE02-03DE02

    • DOI

      10.7567/jjap.53.03de02

    • NAID

      210000143495

    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Annealing performance improvement of elongated inductively coupled plasma torch and its application to recovery of plasma- induced Si substrate damage2014

    • 著者名/発表者名
      T. Okumura, K. Eriguchi, M. Saitoh, H. Kawaura
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 53 号: 3S2 ページ: 03DG01-03DG01

    • DOI

      10.7567/jjap.53.03dg01

    • NAID

      210000143499

    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Improved hardness and electrical property of c-BN thin films by magnetically enhanced plasma ion plating technique2014

    • 著者名/発表者名
      M. Noma, K. Eriguchi, Y. Takao, N. Terayama, K. Ono
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 53 号: 3S2 ページ: 03DB02-03DB02

    • DOI

      10.7567/jjap.53.03db02

    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 層間絶縁膜へのプラズマダメージの電気的解析手法2016

    • 著者名/発表者名
      西田健太郎、岡田行正、鷹尾祥典、江利口浩二、斧高一
    • 学会等名
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学
    • 年月日
      2016-03-19
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] プラズマプロセス誘起ダメージによるデバイス特性劣化の包括的モデル2016

    • 著者名/発表者名
      江利口浩二、斧高一
    • 学会等名
      応用物理学会シリコンテクノロジー分科会
    • 発表場所
      宝塚大学梅田キャンパス
    • 年月日
      2016-02-27
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Surface orientation dependence of plasma-induced ion bombardment damage in Si substrate2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Okada, K. Eriguchi, K. Ono
    • 学会等名
      Proc. 37th International Symposium on Dry Process
    • 発表場所
      Hyogo, Japan
    • 年月日
      2015-11-05
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] A new evaluation method to characterize low-k dielectric damage during plasma processing2015

    • 著者名/発表者名
      K. Nishida, Y. Okada, Y. Takao, K. Eriguchi, K. Ono
    • 学会等名
      Proc. 37th International Symposium on Dry Process
    • 発表場所
      Hyogo, Japan
    • 年月日
      2015-11-05
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Impacts of plasma process-induced damage on MOSFET parameter variability and reliability2015

    • 著者名/発表者名
      K. Eriguchi
    • 学会等名
      The 26th European Symposium on Reliability of Electron Devices, Failure Physics and Analysis
    • 発表場所
      Toulouse, France
    • 年月日
      2015-10-07
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Surface Orientation Dependence of Ion Bombardment Damage during Plasma Processing2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Okada, K. Eriguchi, K. Ono
    • 学会等名
      IEEE Proc. Int. Conf. on Integrated Circuit Design & Technol.
    • 発表場所
      Leuven, Belgium
    • 年月日
      2015-06-02
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Plasma-induced photon irradiation damage on low-k dielectrics enhanced by Cu-line layout2015

    • 著者名/発表者名
      T. Ikeda, A. Tanihara, N. Yamamoto, S. Kasai, K. Eriguchi, and K. Ono
    • 学会等名
      IEEE Proc. Int. Conf. on Integrated Circuit Design & Technol.
    • 発表場所
      Leuven, Belgium
    • 年月日
      2015-06-02
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Modeling of Plasma-induced Damage in Advanced Transistors in ULSI Circuits2015

    • 著者名/発表者名
      K. Eriguchi
    • 学会等名
      Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI) Korea, Technology Symposium
    • 発表場所
      Seoul, South Korea
    • 年月日
      2015-02-05
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] A model for plasma-induced latent defects in three-dimensional structures and its application to parameter variation analysis of FinFETs2014

    • 著者名/発表者名
      K. Eriguchi, K. Ono
    • 学会等名
      36th International Symposium on Dry Process (DPS)
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • 年月日
      2014-11-27 – 2014-11-28
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [学会発表] Effects of ion energy on surface and mechanical properties of BN films formed by a reactive plasma-assisted coating method2014

    • 著者名/発表者名
      M. Noma, K. Eriguchi, S. Hasegawa, M. Yamashita, K. Ono
    • 学会等名
      36th International Symposium on Dry Process (DPS)
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • 年月日
      2014-11-27 – 2014-11-28
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [学会発表] Low-temperature microwave repairing for plasma-induced local defect structures near Si substrate surface2014

    • 著者名/発表者名
      T. Iwai, K. Eriguchi, S. Yamauchi, N. Noro, J. Kitagawa, K. Ono
    • 学会等名
      36th International Symposium on Dry Process (DPS)
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • 年月日
      2014-11-27 – 2014-11-28
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [学会発表] Experimental evidence of layout-dependent low-k damage during plasma processing - Role of "near-field" in damage creation -2014

    • 著者名/発表者名
      T. Ikeda, K. Eriguchi, A. Tanihara, S. Kasai, K. Ono
    • 学会等名
      36th International Symposium on Dry Process (DPS)
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • 年月日
      2014-11-27 – 2014-11-28
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [学会発表] Modeling of plasma-induced damage during the etching of ultimately-scaled transistors in ULSI circuits - A model prediction of damage in three dimensional structures2014

    • 著者名/発表者名
      K. Eriguchi
    • 学会等名
      67th Annual Gaseous Electronics Conference
    • 発表場所
      Raleigh, NC, USA
    • 年月日
      2014-11-03 – 2014-11-07
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] A New Aspect of Plasma‐Induced Physical Damage in Three‐Dimensional Scaled Structures2014

    • 著者名/発表者名
      K. Eriguchi, Y. Takao, K. Ono
    • 学会等名
      IEEE Int. Conf. on Integrated Circuit Design & Technol. (ICICDT)
    • 発表場所
      Austin, TX, USA
    • 年月日
      2014-05-29 – 2014-05-30
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [学会発表] Plasma-Induced Damage in 3D Structures behind Device Scaling2014

    • 著者名/発表者名
      K. Eriguchi, Y. Takao, K. Ono
    • 学会等名
      Plasma Etch and Strip in Microtechnology (PESM)
    • 発表場所
      Grenoble, France
    • 年月日
      2014-05-11 – 2014-05-12
    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [学会発表] micro-Photoreflectance spectroscopy for microscale monitoring of plasma-induced physical damage2013

    • 著者名/発表者名
      A. Matsuda, Y. Nakakubo, Y. Takao, K. Eriguchi, K. Ono
    • 学会等名
      Dry Process Symposium
    • 発表場所
      Jeju, Korea
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
  • [学会発表] Improved hardness and electrical property of c-BN thin films by magnetically enhanced plasma ion plating technique2013

    • 著者名/発表者名
      M. Noma, K. Eriguchi, Y. Takao, N. Terayama, K. Ono
    • 学会等名
      Dry Process Symposium
    • 発表場所
      Jeju, Korea
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
  • [備考] 京都大学 航空宇宙工学専攻 推進工学分野 (斧・江利口研)

    • URL

      http://www.propulsion.kuaero.kyoto-u.ac.jp/

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [備考] 京都大学 航空宇宙工学専攻 推進工学分野 (斧・江利口・鷹尾 研)

    • URL

      http://www.propulsion.kuaero.kyoto-u.ac.jp/

    • 関連する報告書
      2014 実施状況報告書
  • [備考] 京都大学 航空宇宙工学専攻 推進工学分野 (斧・江利口・鷹尾 研)

    • URL

      http://www.propulsion.kuaero.kyoto-u.ac.jp/

    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書

URL: 

公開日: 2014-07-25   更新日: 2019-07-29  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi