| 研究課題/領域番号 |
25630331
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
材料加工・組織制御工学
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| 研究機関 | 首都大学東京 |
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研究代表者 |
楊 明 首都大学東京, システムデザイン研究科, 教授 (90240142)
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| 研究分担者 |
清水 徹英 首都大学東京, システムデザイン研究科, 助教 (70614543)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2014年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2013年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | スケール横断加工 / プレス成形 / 転写プリンティング / 選択的CVD / 真空プレス装置 / ナノ触媒 / 高真空プレス装置 / 金属箔材 / 表面転写 |
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| 研究成果の概要 |
卓上型サーボプレスに小型真空チャンバーを取り付けた雰囲気制御精密プレス成形装置を開発した．プレス成形中に通電加熱による熱援用プレス成形時，素材表面の酸化膜形成の抑制，および熱間転写やCVDプロセスなどによる機能膜形成を可能にした．
スケール横断の複合成形プロセスとして，精密プレス成形時，圧力を利用した機能膜の転写および素材変形に伴う表面酸化膜のき裂生成を利用した選択的CVD成膜プロセスを開発した．特に酸化膜のき裂への選択的CVD成膜がパターン化された機能膜の生成が可能であり，パターン化された機能が要求されたデバイスへの表面機能膜生成プロセスとして有効である．
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