3次元実装における極微細縦方向配線のシングルステップ形成

• 研究課題/領域番号: 25709075
• 研究種目: 若手研究(A)
• 配分区分: 一部基金
• 研究分野: 反応工学・プロセスシステム
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 百瀬 健 東京大学, 工学(系)研究科(研究院), 講師 (10611163)
• 研究期間 (年度): 2013-04-01 – 2016-03-31
• 研究課題ステータス: 完了 (2015年度)
• 配分額: 25,350千円 (直接経費: 19,500千円、間接経費: 5,850千円); 2015年度: 4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円); 2014年度: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円); 2013年度: 16,250千円 (直接経費: 12,500千円、間接経費: 3,750千円)
• キーワード: 超臨界流体 / 製膜 / 3次元実装 / Cu / 超臨界

研究成果の概要

超臨界流体中における化学反応を利用した製膜技術（SCFD）を活用し，超高アスペクト比かつ微細なシリコン貫通電極（TSV）を形成する技術を検討した。絶縁性表面への膜形成と埋め込み性の向上がポイントであり，流通式製膜装置の新規開発による傾斜組成CuMnOxバッファ層と原料溶解度測定を通じた高埋め込み性製膜条件の検討を行った。結果として，アスペクト比が100を超えるシリコントレンチ構造へのCuの埋め込みに成功した。

研究成果

• [雑誌論文] Solubility of bis-(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)copper(II) in mixed supercritical CO2 and H2 systems for application in supercritical fluid deposition of Cu (2015)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Momose, Aiko Kondo, Tatsuya Kamiya, Hideo Yamada, Junji Ohara, Yasuhiro Kitamura, Hirohisa Uchida, Yukihiro Shimogaki, and Masakazu Sugiyama
  • 雑誌名: Journal of Supercritical Fluids 巻: 未定 ページ: 193-200
  • DOI: 10.1016/j.supflu.2015.04.002
  • 査読あり
• [学会発表] Supercritical fluid deposition of metals and metal oxides for electronic device applications (2015)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Momose
  • 学会等名: The 7th China-Japan Symposium on Chemical Engineering
  • 発表場所: Beijing, China
  • 年月日: 2015-10-16
  • 国際学会 / 招待講演
• [学会発表] Solubility measurement and correlation of Cu(tmhd)2 and Mn(pmcp)2 in mixture of scCO2 + H2 for supercritical fluid deposition (2014)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Momose, Aiko Kondo, Tatsuya Kamiya, Hideo Yamada, Junji Ohara, Yasuhiro Kitamura, Hirohisa Uchida, Yukihiro Shimogaki, and Masakazu Sugiyama
  • 学会等名: 14th Euro Meeting on Supercritical Fluids
  • 発表場所: Marseille, France
  • 年月日: 2014-05-18 – 2014-05-21
• [学会発表] Solubility measurement of Cu(tmhd)2 and Mn(pmcp)2 in supercritical CO2/H2 mixture for supercritical fluid deposition (2013)
  • 著者名/発表者名: Takeshi Momose, Aiko Kondo, Hideo Yamada, Junji Ohara, Yasuhiro, Kitamura, Hirohisa Uchida, Yukihiro Shimogaki, and Masakazu Sugiyama
  • 学会等名: 9th World Congress of Chemical Engineering (WCCE9)
  • 発表場所: Soul, Korea