| 研究課題/領域番号 |
25740020
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
放射線・化学物質影響科学
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| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 (2014-2015)
独立行政法人日本原子力研究開発機構 (2013) |
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研究代表者 |
成田 あゆみ 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 省エネルギー研究部門, 産総研特別研究員 (50633898)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2015年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2014年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2013年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | DNA / 自己組織化単分子膜 / 放射光軟X線 / X線光電子分光 / 吸収端近傍X線吸収微細構造 / 放射線影響 / 吸収端近傍X線吸収微細構造法 / DNA損傷過程 / 生体分子固定化 / 酸化物表面 / 軟X線 / X線吸収微細構造法 / X線光電子分光法 / 放射光 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では、自己組織化単分子膜(Self-assembled monolayer: SAM)を利用して固体表面上に生体内に近い状態のDNA試料を作製し、放射光軟X線を用いた照射を行い照射影響を明らかにすることを目的とした。
DNA-SAM二重膜の試料を作製し、膜厚とDNAとSAMの界面の化学結合状態を明らかにした。また作製した試料に対して放射光軟X線を用いた照射を行い、照射前後の吸収端近傍X線吸収微細構造(Near-edge X-ray fine structure: NEXAFS)スペクトルの比較から照射影響による電子構造の変化が確認された。
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