研究課題/領域番号 |
25790019
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研究種目 |
若手研究(B)
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配分区分 | 基金 |
研究分野 |
ナノ材料化学
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研究機関 | 関西大学 |
研究代表者 |
田中 俊輔 関西大学, 環境都市工学部, 准教授 (20454598)
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研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2015-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2014年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2013年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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キーワード | ゼオライト様イミダゾレート構造体 / 膜分離 / ガス分離 / 不均一核生成 / 配位競合 / アルコール分離回収 |
研究成果の概要 |
本研究では、イミダゾール基を有するシリル化剤で表面修飾した多孔質基材上にZIF-8の不均一核生成と優先的な結晶成長を誘導することを試みた。また、使用する金属塩種が膜構造ならびに気体分離特性に及ぼす影響を調べた。酢酸亜鉛を用いることにより、酢酸イオンが2-メチルイミダゾールと配位競合し、ZIF-8の錯形成・結晶成長を制御できることを実証した。従来法では必須であった種結晶の塗布工程を省略したZIF-8の製膜手法を確立した。本製膜手法は水溶媒を用いた室温合成であることを特長とし、従来法に比べて製膜工程における環境負荷低減が期待できる。
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