| 研究課題/領域番号 |
25790026
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
ナノ材料工学
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| 研究機関 | 株式会社豊田中央研究所 |
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研究代表者 |
生野 孝 株式会社豊田中央研究所, 環境・エネルギー1部 エネルギー変換材料研究室, 研究員 (60466331)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2014年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2013年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
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| キーワード | ナノシート / シリコン / 作製 / 層状ナノ構造 / ナノシリコン / 走査プローブ顕微鏡 / ナノデバイス / 局所改質 |
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| 研究成果の概要 |
シリコンナノシートは，ポストグラフェン新材料として注目されている．しかしながら，光・電子デバイス応用に向けて，シリコンナノシートの材料作製技術，微細加工技術，デバイス作製技術等に関する知見は十分得られているとはいえない．本研究では，シリコンナノシートの大面積形成技術の開発と，シリコンナノシートの局所改質によるナノ構造作製技術の開発を目的とした．本研究では，大面積シリコンナノシート作製技術を2つ提案し，ミリメートルサイズのシリコンナノシートを作製することができた．さらに，走査プローブリソグラフィ技術を用い，シリコンナノシートの前駆体薄膜への局所構造改質を実施しナノ構造形成を確認した．
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