| 研究課題/領域番号 |
25790044
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
応用物性
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| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
谷口 知大 国立研究開発法人産業技術総合研究所, スピントロニクス研究センター, 研究員 (90635806)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2015年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2014年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2013年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
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| キーワード | スピントロニクス / 理論 / スピントルク / 磁化ダイナミクス / スピントルク磁化反転 / フォッカー・プランク方程式 |
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| 研究成果の概要 |
本研究はナノ強磁性多層膜においてスピントルクと熱揺らぎの競合によって生じる磁化ダイナミクスの理論を確立することを目指して行った。磁化の運動方程式を解くことで確率的な磁化反転公式を導出した。これはナノ強磁性体の熱擾乱耐性の定量的評価手法の確立に大きく貢献するものである。またスピントルク発振やマイクロ波アシスト磁化反転といった別の物理現象への応用が可能であることも示した。
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