研究課題/領域番号 |
25800309
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研究種目 |
若手研究(B)
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配分区分 | 基金 |
研究分野 |
プラズマ科学
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研究機関 | 独立行政法人産業技術総合研究所 |
研究代表者 |
金 載浩 独立行政法人産業技術総合研究所, 電子光技術研究部門, 主任研究員 (30376595)
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研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2015-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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配分額 *注記 |
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2014年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2013年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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キーワード | グラフェン / ナノカーボン材料 / 大気圧プラズマ / プラズマCVD / マイクロ波プラズマ / カーボンナノ材料 / 透明導電膜 |
研究成果の概要 |
従来の大気圧低温プラズマジェットはスポット状の吹き出しプラズマとなっており、プロセス面積の大規模化には限界があった。本研究では、従来のマイクロ波プラズマにおける導波管の代わりにマイクロストリップ線路を用いた新規のマイクロ波プラズマジェットの開発を行った。マイクロストリップ線路とアレイ技術を用いることにより、大気圧における広い幅のプラズマジェットを生成する技術を実現した。大気圧においても低温、かつ空間的一様なプラズマを生成しており、CVD用プラズマ源として優れた放電特性を示している。これを用いたグラフェン膜合成用高圧CVDシステムを開発した。
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