| 研究課題/領域番号 |
25820040
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
流体工学
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
杵淵 郁也 東京大学, 工学(系)研究科(研究院), 講師 (30456165)
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| 連携研究者 |
吉本 勇太 東京大学, 大学院工学系研究科, 特任助教 (90772137)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2014年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2013年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | 分子流体力学 / 希薄気体力学 / マイクロ気体流れ / 高クヌッセン数流れ / 分子線散乱実験 / 分子動力学シミュレーション |
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| 研究成果の概要 |
マイクロ・ナノスケール流路内における水蒸気輸送現象を支配する主要因子である固体表面における水分子の散乱挙動を分子線散乱実験により調べた．シリコン表面における水分子の散乱挙動は，室温の気体分子が持ち得る狭いエネルギー範囲内であっても，入射並進エネルギーに依存して大きく変化することが明らかになった．入射並進エネルギーの増加に伴って接線方向運動量適応係数が増加するという特異な現象の原因を分子動力学シミュレーションにより明らかにした．
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