| 研究課題/領域番号 |
25820338
|
|---|
| 研究種目 |
若手研究(B)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 研究分野 |
無機材料・物性
|
|---|
| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
|---|
研究代表者 |
中島 智彦 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 先進コーティング技術研究センター, 主任研究員 (50435749)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
|
| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2015年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2014年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2013年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
|
|---|
| キーワード | 薄膜形成 / 配向成長 / ペロブスカイト酸化物 / レーザープロセス / 光電極 / 光MOD法 / 配向制御法 / ペロブスカイト型酸化物シード層 / レーザープロセッシング |
|---|
| 研究成果の概要 |
光ＭＯＤ法を用いた基材を問わない酸化物の高配向成長法の確立に成功し、層状ペロブスカイト型酸化物の直立配向やRuddlesden-Popper相、CeO2、LixVO2などの配向成長も実現し、本手法による配向成長のためのシード層作製の適用範囲を拡大した。また、ペロブスカイト型Mn酸化物のシード層から受ける歪みが物性に与える影響などを明らかにし、単結晶基板の代替材料としての利用可能性であることや、水分解反応用光電極材料の配向多層膜作製によって、より高い光電流を得られることを明らかにするなど簡便な配向成長法の確立がもたらす恩恵について示すことに成功した。
|
