| 研究課題/領域番号 |
25870514
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
生産工学・加工学
設計工学・機械機能要素・トライボロジー
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| 研究機関 | 九州工業大学 |
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研究代表者 |
カチョーンルンルアン パナート 九州工業大学, 情報工学研究院, 助教 (60404092)
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| 研究協力者 |
木村 景一 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 教授 (80380723)
BABU Suryadevara V. クラークソン大学(米国), Dept. of Chemical & Biomolecular Engineering, Distinguished University Professor(栄誉教授)
鈴木 恵友 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 准教授 (50585156)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2014年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2013年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | polishing phenomena / nanoparticle / scattering light / SiC / optical microscopy / evanescent wave / laser / visualization / particle / polishing / evanescent / near field / scattering / surface / 国際研究者交流（米国） / ナノ粒子 / エバネッセント / レーザ / 近接場 / 微粒子 / 散乱 / 界面 |
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| 研究成果の概要 |
ポリシング加工現象を解析するため，被ポリシング面（被加工領域）にエバネッセント光（近接場光）を発生させ，被加工領域に侵入するナノ微粒子の挙動観察を行なった．独自に開発したポリシング機に搭載できるポリシング現象可視化装置により，ポリシングの現象を再現し，SiO2基板で粒径15～100nm（4H-SiC基板では粒径50nmのシリカ）の粒子の挙動を動的に毎秒100フレームで観察することに成功した．
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