| 研究課題/領域番号 |
25H00796
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
中区分26:材料工学およびその関連分野
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| 研究機関 | 横浜国立大学 |
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研究代表者 |
多々見 純一 横浜国立大学, 大学院環境情報研究院, 教授 (30303085)
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| 研究分担者 |
飯島 志行 横浜国立大学, 大学院環境情報研究院, 准教授 (70513745)
高橋 拓実 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所, 機械・材料技術部, 研究員(任期無) (30715991)
伊藤 暁彦 横浜国立大学, 大学院環境情報研究院, 准教授 (20451635)
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| 研究期間 (年度) |
2025-04-01 – 2028-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2025年度)
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| 配分額 *注記 |
47,970千円 (直接経費: 36,900千円、間接経費: 11,070千円)
2025年度: 33,670千円 (直接経費: 25,900千円、間接経費: 7,770千円)
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| キーワード | サイアロン / 透明 / 蛍光 / 粉体プロセス / レーザー |
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| 研究開始時の研究の概要 |
本研究では、α-SiAlONセラミックス中に存在する光の散乱源を、その要因となる原料から焼結体まで含めた粉体不均質の理解と制御により極限まで低減することで高透明化を実現するさらに、その帰結として得られる極低散乱透明α-SiAlONセラミックスの発光・励起メカニズムを解明するとともに、そのレーザー応用の可能性を見いだす。これに基づいて得られる本研究の成果は、ものづくり、情報通信、エネルギー、医療分野への応用展開や、粉体を利用して製造される各種粉体材料の高機能化のための粉体プロセス設計の指導原理の構築などへの波及が期待される。
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