三次構造の形成制御による内部分子空間と外部ナノ空間を有する次世代空間材料の創成

• 研究課題/領域番号: 25H00896
• 研究種目: 基盤研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 中区分35:高分子、有機材料およびその関連分野
• 研究機関: 京都大学
• 研究代表者: 生越 友樹 京都大学, 工学研究科, 教授 (00447682)
• 研究分担者: 加藤 研一 京都大学, 工学研究科, 助教 (10879406) ; 大谷 俊介 京都大学, 工学研究科, 助教 (90911503)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2029-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 61,360千円 (直接経費: 47,200千円、間接経費: 14,160千円); 2025年度: 30,810千円 (直接経費: 23,700千円、間接経費: 7,110千円)
• キーワード: ピラー[n]アレーン / 三次構造 / 静電反発 / 内部分子空間 / 外部ナノ空間

研究開始時の研究の概要

一次構造の環状分子を設計し集積化させることで、チューブ・シート状といった内部分子空間を有する二次構造の構築が精力的に行われてきた。しかし、二次構造がさらに集積した三次構造制御は困難であった。その中で予備的な検討から、一次構造に静電反発が働くイオン部位を導入すると、二次構造間の静電反発により外部ナノ空間を有する三次構造を形成できることを見出した。そこで本研究では、研究代表者が独自に開発した環状分子「ピラー[n]アレーン」を利用し、一次構造にイオン部位を導入し内部分子空間を持つチューブ・シート状の二次構造を制御して集積化することで、外部ナノ空間を有する三次構造の構築を行う。