低温合成法を駆使したフッ素含有可視光応答型半導体光触媒の創成

• 研究課題/領域番号: 25H00899
• 研究種目: 基盤研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 中区分36:無機材料化学、エネルギー関連化学およびその関連分野
• 研究機関: 東京科学大学
• 研究代表者: 前田 和彦 東京科学大学, 理学院, 教授 (40549234)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 採択 (2025年度)
• 配分額: 46,540千円 (直接経費: 35,800千円、間接経費: 10,740千円); 2025年度: 18,200千円 (直接経費: 14,000千円、間接経費: 4,200千円)