薄膜エピタキシー技術に立脚した多層系ニッケル酸化物超伝導の実現

• 研究課題/領域番号: 25K00015
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分13030:磁性、超伝導および強相関系関連
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 長田 礎 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 助教 (00956287)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 18,720千円 (直接経費: 14,400千円、間接経費: 4,320千円); 2027年度: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2026年度: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2025年度: 9,360千円 (直接経費: 7,200千円、間接経費: 2,160千円)
• キーワード: 超伝導 / 薄膜

研究開始時の研究の概要

無限層ニッケル酸化物における超伝導の発見は、高温超伝導の物理の解明に向け、新しい道筋を与えた。最近では、高圧条件下で約80 Kの高温超伝導が報告されるなどその研究領域は急速な広がりをみせている。本研究では、薄膜エピタキシー技術を用いて、これまで研究されてきた無限層ニッケル酸化物を多層系にまで拡張し、未踏領域の物質群を探索する。高品質な単結晶薄膜合成と強酸化・還元処理により、新奇多層ニッケル酸化物超伝導の実現を目指す。