強磁性ドメイン壁が生む創発インダクタの実証

• 研究課題/領域番号: 25K00944
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分13030:磁性、超伝導および強相関系関連
• 研究機関: 東京科学大学
• 研究代表者: 賀川 史敬 東京科学大学, 理学院, 教授 (30598983)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 18,720千円 (直接経費: 14,400千円、間接経費: 4,320千円); 2027年度: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2026年度: 4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円); 2025年度: 9,750千円 (直接経費: 7,500千円、間接経費: 2,250千円)
• キーワード: スピントロニクス / 創発電磁誘導

研究開始時の研究の概要

インダクタの新原理として2020年に日本の実験グループによって“実証”された「大電流下での非線形創発インダクタ」は、実はジュール発熱によるインピーダンスの変調を捉えていたに過ぎない可能性が濃厚になってきた。本申請は、創発インダクタ実験の再出発を図るべく、ジュール発熱を避けた線形応答に焦点を絞り、真に創発インダクタと呼べる応答、すなわち非共線な磁気テクスチャ由来の正のリアクタンスを実験で見出すことを目標とする。実証実験は標準的な強磁性体を細線状に加工したものに対して行う。