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2次元vdWH構造体の革新的合成手法の確立とナノ表面改質技術

研究課題

研究課題/領域番号 25K01116
研究種目

基盤研究(B)

配分区分基金
応募区分一般
審査区分 小区分18010:材料力学および機械材料関連
研究機関東京科学大学

研究代表者

平田 祐樹  東京科学大学, 総合研究院, 准教授 (90779068)

研究分担者 張 鋭璽  東京科学大学, 総合研究院, 助教 (20980395)
研究期間 (年度) 2025-04-01 – 2028-03-31
研究課題ステータス 交付 (2025年度)
配分額 *注記
18,850千円 (直接経費: 14,500千円、間接経費: 4,350千円)
2027年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2026年度: 5,720千円 (直接経費: 4,400千円、間接経費: 1,320千円)
2025年度: 12,220千円 (直接経費: 9,400千円、間接経費: 2,820千円)
キーワードLow dimensional material / vdWH / Graphene / hBN / TMDC
研究開始時の研究の概要

2次元材料は原子数層厚さのシート状材料であり、極めて優れた特性を示すことから、多くの分野で革新的な進歩をもたらすことが期待されている。また、構造および特性が確定しており、原子レベルでの構造制御が可能なことから、それらの組合わせからなるvdWH構造は、各表面特性の足し算・掛け算として定義される。そのため「原子レベルでの設計可能性とナノレベルで確定した特性を併せ持つ表面」=「究極の表面」としてデザイン可能である。本研究では、2次元材料およびそのvdWH構造の合成技術とその実用化に向けた課題に対し、実験と計算科学を両輪に学術的に取り組み、新時代の表面科学に関する学術的潮流を創発する営みに挑戦する。

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公開日: 2025-04-17   更新日: 2025-06-20  

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