研究課題
基盤研究(B)
大気圧プラズマによる化学処理は、高密度の反応性粒子(ラジカル)を多様な対象に作用させられるという利点の一方、プラズマ発生経路が1回毎に変化するという課題がある。本研究では、プラズマ発生前に所定領域の粒子をレーザーで予備励起することにより、プラズマ発生経路を能動的に制御するとともに、励起粒子の種類に応じて特定のラジカル生成反応を選択的に促進し、所望の領域に特定のラジカルを作用させる理想的反応場を形成する。予備励起条件とプラズマ発生経路のばらつきおよびラジカル空間分布との関係性を分光測定によって定量評価するとともに、処理条件から反応場を計算する数値解析コードを構築し、本手法の学理を構築する。