透過電子顕微鏡によるsub-nm絶対測長を実現する技術の開発

• 研究課題/領域番号: 25K01246
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分21030:計測工学関連
• 研究機関: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
• 研究代表者: 小林 慶太 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 計量標準総合センター, 主任研究員 (40556908)
• 研究分担者: 木津 良祐 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 計量標準総合センター, 主任研究員 (40760294)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2029-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 18,850千円 (直接経費: 14,500千円、間接経費: 4,350千円); 2028年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2027年度: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円); 2026年度: 7,930千円 (直接経費: 6,100千円、間接経費: 1,830千円); 2025年度: 5,460千円 (直接経費: 4,200千円、間接経費: 1,260千円)
• キーワード: 透過電子顕微鏡 / 原子間力顕微鏡 / ナノメトロロジー / SIトレーサビリティー / 絶対測長

研究開始時の研究の概要

本研究ではメートルの国際単位系(SI)定義に基づくsub-nmオーダの定量的測長の実現を目指して、測長原子間力顕微鏡を援用してレーザ干渉計による絶対測長技術を導入した透過電子顕微鏡(TEM)による測長システムを新規開発する。そしてシリコン薄膜の格子面間隔距離をレーザ干渉計に基づいて決定することでSI定義にトレーサビリティをもつsub-nmオーダ測長の標準試料（基準となる測長値を有した試料）を作製し、TEMユーザーが広く利用できる計量基盤を確立する。