前駆体の精密設計に基づく高分子状窒化炭素構造体の薄膜形成と光電気化学応用

• 研究課題/領域番号: 25K01271
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分21050:電気電子材料工学関連
• 研究機関: 慶應義塾大学
• 研究代表者: 野田 啓 慶應義塾大学, 理工学部(矢上), 教授 (30372569)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 採択 (2025年度)
• 配分額: 25,870千円 (直接経費: 19,900千円、間接経費: 5,970千円); 2027年度: 5,980千円 (直接経費: 4,600千円、間接経費: 1,380千円); 2026年度: 7,800千円 (直接経費: 6,000千円、間接経費: 1,800千円); 2025年度: 12,090千円 (直接経費: 9,300千円、間接経費: 2,790千円)