超臨界ナノプレーティング法による単原子電析反応の学理構築

• 研究課題/領域番号: 25K01542
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分26050:材料加工および組織制御関連
• 研究機関: 東京科学大学
• 研究代表者: 曽根 正人 東京科学大学, 総合研究院, 教授 (30323752)
• 研究分担者: 細田 秀樹 東京科学大学, 総合研究院, 教授 (10251620) ; チャン ツォーフーマーク 東京科学大学, 総合研究院, 准教授 (10647069) ; 黒子 弘道 奈良女子大学, 工学系, 教授 (20221228)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2029-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 25,870千円 (直接経費: 19,900千円、間接経費: 5,970千円); 2028年度: 5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円); 2027年度: 5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円); 2026年度: 6,500千円 (直接経費: 5,000千円、間接経費: 1,500千円); 2025年度: 8,970千円 (直接経費: 6,900千円、間接経費: 2,070千円)
• キーワード: 電析反応 / 電気化学 / 導電性高分子 / 超臨界流体 / 単原子

研究開始時の研究の概要

本提案では、数十ナノメートル径の微細孔への無欠陥埋め込みめっきを実現した超臨界ナノプレーティング（SNP）法に、単原子電析方法を融合することにより、超臨界二酸化炭素（CO2）反応場という希薄な金属イオン溶液と断続的電流場を利用する新奇な超臨界CO2単電子電析反応容器を創成することにより、超臨界CO2中の単原子電析反応を研究して無機・有機材料の特定分子部位に金属を単原子で析出する単原子金属電析制御の学理を構築することを目的とする。