研究課題
基盤研究(B)
人工知能など情報技術を支えるコンピュータ性能の更なる向上のため、シングルナノパターンを1 nm未満の精度で加工することが求められているがシングルナノ微細加材料はない。本研究では、シングルナノ加工が可能なブロック共重合体のミクロ相分離を取り上げ、独自に開発したブロック共重合体の誘導体を合成し、シングルナノパターンの加工、およびそのラフネスを調べる。また、量子ビームによるブロック共重合体の高度配向制御を行うともに、ブロック共重合体へのトリメチルアルミニウム(TMA)を含侵させた後のエッチング耐性を調べる。以上によりシングルナノ微細加工材料・プロセス創成のための学術基盤を確立する。