グライム系常温アルミニウム電析のミクロストラテジーの構築

• 研究課題/領域番号: 25K01556
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分26060:金属生産および資源生産関連
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 北田 敦 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 准教授 (30636254)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 18,720千円 (直接経費: 14,400千円、間接経費: 4,320千円); 2027年度: 5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円); 2026年度: 5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円); 2025年度: 8,450千円 (直接経費: 6,500千円、間接経費: 1,950千円)
• キーワード: 金属電析 / 電解液 / 分子論

研究開始時の研究の概要

本研究では「安価・安全・室温」の実プロセスの３条件をクリアする唯一の材料「グライム系Al電析浴」中のAl錯体構造と電析の関連を分子論的に精査し、得られた結果を錯体構造の精密な制御へと結びつけ、めっき、製錬、電池のための非水電析研究の発展に貢献する。電析の計算科学としては有限要素法によるマクロスケールシミュレーションが先行するが、本研究では微視的な視点からグライム系Al電析を再考し、界面実験と分子論的計算により得られる熱力学的／速度論的パラメータを、過去の蓄積実験データと照合・相関解析することでグライム系高速Al電析浴のミクロ設計指針を確立し、世界の非水系電析研究発展の端緒とする。