金属クラスター触媒の精密サイズ制御手法の確立と高耐久化技術の革新による機能探索

• 研究課題/領域番号: 25K01616
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分28030:ナノ材料科学関連
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 増田 晋也 東京大学, 大学院理学系研究科(理学部), 特任助教 (80885468)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 18,850千円 (直接経費: 14,500千円、間接経費: 4,350千円); 2027年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円); 2026年度: 5,980千円 (直接経費: 4,600千円、間接経費: 1,380千円); 2025年度: 10,660千円 (直接経費: 8,200千円、間接経費: 2,460千円)
• キーワード: 金属クラスター触媒 / 配位子保護金属クラスター / 不均一系触媒

研究開始時の研究の概要

本研究では、配位子で保護することで金属クラスターのサイズを精密制御する合成手法を確立するとともに、保護配位子と固体担体の相互作用を活用して一部配位子を除去しつつ残存配位子が活性点である金属クラスターを安定化した不均一系触媒を合成することで、活性・耐久性・精密性を両立した理想的な不均一系触媒の開発を行い、種々の触媒反応において活性・選択性が発現する起源の解明を目指す。