グラフェンと六方晶窒化ホウ素の超低速精密成長

• 研究課題/領域番号: 25K01623
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分28030:ナノ材料科学関連
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 井ノ上 泰輝 大阪大学, 大学院工学研究科, 助教 (00748949)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 18,850千円 (直接経費: 14,500千円、間接経費: 4,350千円); 2027年度: 5,590千円 (直接経費: 4,300千円、間接経費: 1,290千円); 2026年度: 6,630千円 (直接経費: 5,100千円、間接経費: 1,530千円); 2025年度: 6,630千円 (直接経費: 5,100千円、間接経費: 1,530千円)
• キーワード: グラフェン / 六方晶窒化ホウ素 / 二次元物質 / 化学気相成長 / 構造制御

研究開始時の研究の概要

グラフェンは特異な物性を有する二次元物質であり、多方面でその応用が期待されている。また、六方晶窒化ホウ素は絶縁性の二次元物質であり、グラフェンとの相補的な構造形成に活用可能である。本研究では、化学気相成長法によるグラフェンおよび六方晶窒化ホウ素の成長において、成長速度を精密に制御することで、複数の二次元物質から成る所望の微細構造を制御形成する手法の確立を目指す。